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応用/ドライ洗浄 | FLAT EXCIMER

平面型ランプとRF(高周波)放電の採用により、均一な照射とちらつきの少ない安定した出力を実現したエキシマランプ光源です。

従来のコロナ放電方式・プラズマ方式に比べて、ダメージレスで粉塵の発生がありません。

真空紫外光を照射することにより、有機物の化学結合を切断して、酸化・揮発させることで表面の有機汚れを除去します。エキシマランプ光源から放出される波長 172 nmの真空紫外光は、酸素に対する高い吸収係数により、高濃度の活性酸素・オゾンを生成するとともに、優れた有機物の分子結合切断能力を有しています。高い洗浄品質による歩留まり向上などのメリットがあり、特にウェット洗浄不可な材料や熱に弱い材料などに対して有効です。

応用例

  • ウェーハ・ガラス基板の洗浄
  • レジスト残渣・接着剤残渣・有機膜・油汚れの除去

レーザ用Au蒸着ミラーの洗浄

洗浄前

レーザ用Au蒸着ミラーの洗浄前

洗浄後

レーザ用Au蒸着ミラーの洗浄後

ウェーハのスペースリキッド残渣の除去

洗浄前

ウェーハのスペースリキッド残渣 洗浄前

洗浄後

ウェーハのスペースリキッド残渣 洗浄後

アセトン洗浄残りの除去

洗浄前

アセトン洗浄残りの除去 洗浄前

洗浄後

アセトン洗浄残りの除去 洗浄後

原理 (代表例)

原理 (代表例)

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