応用例 | VUV Ionizer：静電気除去装置

真空紫外光によるイオン生成方式「Photoionization(光イオン化)」を採用した静電気除去装置です。真空紫外光の特性を生かした革新的な方式は、これまで不可能であった真空中(減圧下)での静電気除去を実現します。

半導体や液晶・有機ELなどで導入が進んでいるVUV Ionizer：静電気除去装置の応用例を紹介しますので、ご覧ください。

歩留まりやスループットの大幅な向上に貢献その有効性からさまざまな業界で導入が進んでいます。

VUV Ionizerの導入は、静電破壊やパーティクルの付着を防ぐとともに、製造工程における歩留まりやスループットの大幅な向上に貢献します。逆帯電がないのはもちろん、送風不要で塵や電磁ノイズの発生がないクリーンな方式であるため、その有効性から半導体や液晶・有機ELをはじめとする静電気やパーティクルなどが懸念される業界で幅広く導入されています。

半導体

半導体デバイスは小型化・微細化・高集積化に伴い、静電気による影響が大きくなっています。静電破壊やパーティクル付着による異物不良など、静電気への対策が重要となっています。
静電チャックでの応用の場合、デチャック時における静電気を除去することで、安全にデチャックすることが可能です。また、ウェーハのないタイミングで真空紫外光を照射することで静電チャックの残留帯電を除去するとともに、半導体デバイスへのダメージを防ぎます。弊社では数秒単位・数分単位でのON / OFF制御にはシャッタを用いた真空紫外光の遮蔽を推奨しています。

液晶・有機EL

液晶・有機ELの大型化・薄型化が進むなかで、大面積対応の効率的かつ効果的な静電気対策が求められています。静電破壊やパーティクル付着による異物不良などを防ぐとともに、製造工程における歩留まりやスループットの向上に繋がります。
大型ガラス基板での応用の場合、複数台設置することにより、除電効果を高めます。

ハードディスク

大容量化・データ転送速度の高速化などの要求の高まりから、静電気対策の重要性も高まっています。静電気に脆弱な磁気ヘッドやパーティクルが付着しやすいディスクなど、さまざまな部品に対して静電気対策を行うことで、製造工程における歩留まりやスループットの向上を実現します。

フィルム

接触・剥離が繰り返されることにより静電気が発生します。特に巻き出し部と巻き取り部では多くの静電気が蓄積されます。スパークによるダメージ(穴あき)やパーティクル付着による異物不良などを防止するとともに作業環境改善に貢献します。
幅広フィルムでの応用の場合、複数台設置することにより、除電効果を高めます。