フォトレジスト塗布

フォトレジストといわれる感光剤をウェーハ表面に均一に塗布する工程です。

膜厚・厚み測定

塗布されたフォトレジストの厚みの測定を行います。

分光干渉法を利用した非接触の膜厚計を使用することでIn-situで膜厚管理が可能です。幅広い膜厚測定に適応しており、高輝度・短波長の光源を採用することで極薄膜測定への対応も可能にします。

関連製品

非接触かつリアルタイムで薄膜の膜厚測定が可能です。装置組み込みを容易にするために小型化を実現しています。

キセノンガスを充填したバルブ内の放電電極間に、集光したレーザ光でプラズマを発生させて発光を維持する方式を採用した世界で唯一の光源です。従来のキセノンランプに比べて、高輝度点発光・長寿命といった特長があります。

超短パルスレーザを利用した非線形光学現象により生成される広帯域なレーザ光を出力するコンパクト設計のレーザ光源です。レーザの高い指向性と輝度特性に加えて、ランプの広帯域な発振スペクトルを兼ね備えています。

光学系・イメージセンサ・回路をコンパクトにまとめた小型分光器です。紫外域から近赤外域までの幅広い波長範囲に対応しています。

EUV用レジスト評価

EUV(極端紫外線)向けレジスト材料開発における評価を行います。

最先端の露光装置で使用されるEUV光源は非常に高価であるため、レジスト材料開発にはEUVに近い効果が得られて手軽な導入が可能な低エネルギー電子線が応用されています。

関連製品

低エネルギー電子線を効率的に照射する電子線照射源です。Siウェーハのドライ洗浄やレジスト・誘電体・絶縁層など各種薄膜の特性改善に応用が可能です。

除電

ウェーハなどの搬送時に発生する帯電を除去します。

Photoionization(光イオン化)を利用することにより、塵や電磁ノイズ・オゾンの発生しないクリーンな除電を実現します。

関連製品

大気中において高い除電能力を誇る静電気除去装置です。微弱X線を利用することにより、送風不要での0 V除電を実現します。また、塵や電磁ノイズの発生がありません。

プロセス中の薬剤濃度計測

ウェットプロセスにおける薬液の濃度管理を行います。

分光計測に最適な各種検出素子により、近赤外分光法を利用した高精度な薬液濃度管理を実現します。

関連製品

片手で持ち運び可能なフーリエ変換型近赤外分光器です。マイケルソン光干渉計と制御回路を内蔵しており、PCとUSB接続することによってスペクトルや吸光度の測定を行うことができます。

光学系・イメージセンサ・回路をコンパクトにまとめた小型分光器です。近赤外にピーク感度があります。

アライメント

ウェーハと加工点の位置合わせを行います。

ウェーハとステージの位置がズレることで不良発生やスループット低下に繋がるため、高速かつ高精度なウェーハの位置決めと補正が必要です。

関連製品

縦長画素 (14 × 200 μm)の受光部を採用した高感度CMOSリニアイメージセンサです。紫外域から近赤外域で高感度を実現しています。

LED

電気エネルギーを光エネルギーに変換する半導体素子です。主に受光素子と組み合わせて使用します。赤色から赤外の波長のさまざまなパッケージのLEDを用意しています。

ウェーハ状態チェック

ウェーハの表面異物や内部欠陥の検査を行います。

表面異物検査用可視光デバイスや内部観察用近赤外カメラにより、非破壊・非接触での微小異物や微細欠陥の検査を可能にします。

関連製品

近赤外域に高い感度をもつAPS型CMOSエリアイメージセンサです。画素フォーマットは、SXGA (1280 × 1024画素)で、最大146 frames/sでの撮像が可能です。

高速撮像時などの低照度下においても十分な明るさの画像が得られるTDI-CCDです。TDI動作により、移動する対象物を積分露光することで、感度を飛躍的に向上させました。

近赤外域に感度を有するカメラです。内部を透過撮影することで欠陥やボイド検査を可能にします。

紫外域において高い出力を有する安定性に優れた光源です。紫外域において連続スペクトルを有しており、また分析機器用ランプとして要求される長寿命・高安定・高出力を併せ持っています。

高い輝度・色温度で紫外域から赤外域までの連続スペクトルを有する光源です。弊社独自の高性能陰極の採用により、精密測光用ランプとして幅広く使用されています。 

瞬間的な高いピーク出力を有するパルス点灯光源です。紫外域から赤外域までの連続スペクトルにより、分析からイメージングまで幅広い用途で使用されています。

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